瑆创科技开发的NANYTE可以设计任何您想要的纳米图形，而无需昂贵的光刻板。瑆创科技的这款产品能在实现优越的光刻性能的同时，保证低成本以及更便捷的用户体验。
光束引擎将紫外激光束聚焦到衍射极限点并曝光光刻胶上的任何图案。对大尺寸晶圆，设备能实现精准的步进式光刻。光束引擎具有能够在 5 英寸晶圆上产生小于 (CD) 0.8µm 的特征。
* 瑆创新推出的Beam可以根据需要自由组合，为用户带来更灵活更实惠的最优选项。请即联系我们获取最新资讯。
袖珍
全功能无掩模光刻机，比台式电脑还小，价格更实惠。
强大
拥有亚微米分辨率，在不到两秒的时间内完成一个曝光图案的写入。
超快自动对焦
当与我们的闭环聚焦光学器件结合使用时，压电致动器在不到一秒的时间内完成聚焦。
毫不费力的多层对齐
几分钟内实现半自动多层对准。
想获取产品演示或样品测量请即电邮我们
sales@simtrum.cn
产品目录：
测试样品
开环谐振器阵列。右侧的分离距离为1.5µm (箭头)，左侧的分离距离为 2 µm。
外圈直径为 80 µm。
硅衬底上的光刻胶微图案阵列。 每个单元为 50 × 63 µm，相邻图案之间的间距为
3 µm。 使用的光刻胶：AZ5214E
0.8 µm 锥形中间部分，侧面有 20 ✕ 90 µm 接触电极。 使用的光刻胶：AZ5214E
软件特点
随附的软件可以快速完成任何图案工作； 只需加载、对准和曝光。 导航类似于 CNC 系统。在多层曝光期间，GDS 图案被覆盖以进行可视化。 控制 GUI（左窗口）有一个加载的 GDS 的小地图，允许通过一键导航到晶圆上的任何区域。
探索者主窗口
相机窗口
充当整个样本阶段的小地图。 可以查看加载的图案和暴露区域。黑色 bos 显示 BEAM ENGINE 当前所在的区域。 摄像头窗口上的实时视频也对应相同的区域。
摄像头窗口显示 BEAM ENGINE 下方的图案。 相机窗口在对齐过程中也起着重要作用，其中选定的对齐特征显示在 amera 流上。
图案处理
NANYTE BEAM 的设计使完全曝光所需的步骤最少。 根据图案化工作的复杂性，可以在 3 分钟内将图案加载、对齐和曝光到晶圆上。 整个图案化工艺流程如下图所示：
产品规格
2 µm guaranteed, 0.8 µm achievable (0.8µm可实现）
最小间距
曝光时间
最大写场
激光能量
激光波长
激光振镜
步径
重复性
速度
电动平台
编辑器分辨率
(1σ)载物台重复性
移动区域
最大样本尺寸
晶圆对齐
支持多层工艺
软件
图案
设计
KLayout (most powerful最强大), MS Paint/Powerpoint (rapid prototyping快速原型设计)
重量
系统尺寸
* For more information about upgrading to Multilayer Processes, please contact us. 可升级为支持多层工艺，请联系我们了解更多资讯。
Front View
Back View
模块化光学设计
可更换的光学元件可最大限度地减少停机时间并提高可升级性。
定制选项可用于不同的波长和写场大小。联系我们 sales@simtrum.cn了解更多信息 。
运行需求
功率
BEAM 在 100-240 VAC 50-60j Hz 上运行。 自动感应线路电压和频率； 因此，无需设置任何开关。 检查您所在地区的工作电压是否兼容。
放置环境
● 室内、无尘、近非导电污染（EN61010-1:2010 2 级）
● 桌面振动应保持在 VC-A (50 um/s) 以下
● 非超净间环境下可使用
● 设备必须避免阳光直射
● 相对湿度 < 80%（无冷凝）
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无掩模光刻紫外直接激光写入系统，最小线宽保证2µm，可实现0.8µm，最小螺距可实现1.6µm, 每个写入场曝光时间< 2s，最大写入场400µm x 400µm，激光功率40mW，激光波长405nm
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